TEIXEIRA, Evandro Luis. The Neutral Mask’s Phenomenology. Urdimento: Revista de Estudos em Artes Cênicas, Florianópolis, v. 3, n. 39, p. 1–15, 2020. DOI: 10.5965/14145731033920200207. Disponível em: https://www.revistas.udesc.br/index.php/urdimento/article/view/17955. Acesso em: 19 may. 2024.